蘇州大學(xué)物理能源學(xué)院導(dǎo)師：葉超 正文

　　姓名：葉超
　　職稱：研究員
　　部門：大學(xué)物理部
　　聯(lián)系方式：
　　0512-69157032 電子郵箱：

　　個(gè)人簡(jiǎn)歷：
　　1986年畢業(yè)于蘇州大學(xué)物理系，2001年獲理學(xué)碩士學(xué)位，2006年獲理學(xué)博士學(xué)位?，F(xiàn)為蘇州大學(xué) 基礎(chǔ)物理國(guó)家實(shí)驗(yàn)教學(xué)中心副主任、蘇州大學(xué)低溫等離子體創(chuàng)新研究團(tuán)隊(duì)核心成員。從事過《固體物理實(shí)驗(yàn)》、《近代物理實(shí)驗(yàn)》、《低溫等離子體診斷技術(shù)》、 《大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)》課程教學(xué)，主編《低氣壓低溫等離子體診斷原理與技術(shù)》。主持、參加國(guó)家級(jí)科研項(xiàng)目6項(xiàng)，在《Appl. Phys. Lett.》等國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)期刊發(fā)表研究論文100多篇，獲得過江蘇省、蘇州市、蘇州大學(xué)科技進(jìn)步獎(jiǎng)，江蘇省、蘇州大學(xué)教學(xué)成果獎(jiǎng)，江蘇省優(yōu)秀碩士論文獎(jiǎng)等。

　　獲獎(jiǎng)、榮譽(yù)和學(xué)術(shù)兼職：
　　1、“基礎(chǔ)物理（實(shí)驗(yàn)）教學(xué)團(tuán)隊(duì)”2010年國(guó)家級(jí)教學(xué)團(tuán)隊(duì)。
　　2、2009年、2011年江蘇省高等教育教學(xué)成果二等獎(jiǎng)。
　　3、多頻等離子體和離子束沉積多種微納電子薄膜材料，2008年江蘇省科技進(jìn)步三等獎(jiǎng)。
　　任教課程：
　　1、《大學(xué)物理實(shí)驗(yàn)》（本科生）
　　2、《等離子體物理與技術(shù)》（碩士生）
　　3、《等離子體應(yīng)用前沿》（博士生）

　　研究領(lǐng)域：
　　主要從事低溫等離子體物理、技術(shù)和凝聚態(tài)物理（薄膜物理）的研究。

　　基金項(xiàng)目：
　　1、國(guó)家自然科學(xué)基金：納電子器件中的SiCOH超低k材料及相關(guān)復(fù)雜性研究/主持人 2006-2008
　　2、國(guó)家自然科學(xué)基金：多頻等離子體與硅基軟物質(zhì)的作用研究/主持人 2010-2012
　　3、國(guó)家自然科學(xué)基金：多頻等離子體濺射沉積Ag摻雜a-SiCxOy發(fā)光材料的研究/主持人 2013-2016
　　4、國(guó)家自然科學(xué)基金：ECR等離子體中多碳氟基團(tuán)的研究/參加 2001-2004
　　5、國(guó)家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目：低氣壓多頻等離子體與材料表面相互作用/參加 2007-2010
　　6、科技部ITER計(jì)劃國(guó)內(nèi)研究項(xiàng)目：強(qiáng)磁場(chǎng)螺旋波等離子體物理及超導(dǎo)托卡馬克壁清洗新技術(shù)/參加 2010-2013

　　代表性論著、研究成果：
　　1、 C. Ye, etal., Dielectric properties of silicon nitride films deposited by microwave electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition at low temperature, Appl.Phys.Lett. 71, 336 (1997)
　　2、 C. Ye, etal., Microstructure and dielectric properties of silicon nitride films deposited by electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition, J.Appl.Phys. 83, 5978 (1998)
　　3、C. Ye, etal., Effect of doping on structure and dielectric property of SiCOH films prepared by decamethylcyclopentasiloxane, J. Electrchem. Soc. 154, G63 (2007)
　　4、C. Ye, etal, Effect of decamethylcyclopentasiloxane and trifluromethane electron cyclotron resonance plasmas on F-SiCOH low dielectric constant film deposition, J.Appl.Phys. 106, 013302 (2009)
　　5、《低氣壓低溫等離子體診斷原理與技術(shù)》，主編，北京：科學(xué)出版社（2010）

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